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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

Kleijn, Chris R., Werner, Christoph

Kleijn, Chris R., Werner, Christoph

Detalles del libro

EditorialBirkhäuser
EdiciónSoftcover reprint of the original 1st ed. 1993(20/11/2013)
Páginas140
IdiomaInglés
ISBN9783034877435
ISBN-103034877439

Detalles del libro

Autor/esKleijn, Chris R., Werner, Christoph
EditorialBirkhäuser
EdiciónSoftcover reprint of the original 1st ed. 1993(20/11/2013)
Páginas140
IdiomaInglés
ISBN9783034877435
ISBN-103034877439
53,19 €
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Resumen

Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence... Leer más

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Otra información de interés

  • Portada: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films de Birkhäuser
  • Editorial: Birkhäuser | 20/11/2013
  • Sinopsis:

    El autor de Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films, con isbn 978-3-0348-7743-5, es Kleijn, Chris R., Werner, Christoph, esta publicación tiene ciento cuarenta páginas.

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films